某半导体器件加工制造的企业因晶圆洗生产工艺导致含氨废液，排水量200吨/天。废液中除氧化还原电位外还有效氟化物和进样器天价属，正确处理强度大。当地城市废气标准规定耍求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺物质及从何而来 晶圆进行维护清洁电镀废水（其主要来源地）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序废水处理方法：含少量铜、镍等天价属，pH值动荡大 CMP磨研废水处理工艺：含硅粒状及氯离子 治理加工过程标准流程 选择"催化滤渣+膜分开+折点氯化"组合成鑫霖环保： 预加工 ：加药CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 反渗透膜设备 ：除掉0.01μm超过颗粒剂物 反渗透装置性和精提 ：将化学需氧量果汁至1000mg/L大于 折点氯化 ：精度把控好氯添加量，将氯离子转变成为氢气 化合物对调 ：确保血本属达到 终于视觉效果 氯离子不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属成分低过测量限 水循环率达75% 工业废水引发量限制40%